이재용 회장, 獨 자이스 본사 방문..'반도체 생산 수율 높인다'

글로벌 | 김세형  기자 |입력
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장(가운데)이 칼 람프레히트(Karl Lamprecht) 자이스그룹 CEO(왼쪽), 안드레아스 페허(Andreas Pecher) 자이스 SMT(Semiconductor Manufacturing Technology) CEO(오른쪽)와 기념 사진을 촬영하는 모습
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 ZEISS 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장(가운데)이 칼 람프레히트(Karl Lamprecht) 자이스그룹 CEO(왼쪽), 안드레아스 페허(Andreas Pecher) 자이스 SMT(Semiconductor Manufacturing Technology) CEO(오른쪽)와 기념 사진을 촬영하는 모습

이재용 삼성전자 회장은 지난 26일(현지 시간) 독일 오버코헨에 위치한 자이스(ZEISS) 본사를 방문, 칼 람프레히트(Karl Lamprecht) CEO 등 자이스 경영진과 양사 협력 강화 방안을 논의했다고 28일 삼성그룹이 밝혔다. 

자이스는 첨단 반도체 생산에 필수적인 EUV(extreme ultraviolet) 기술 관련 핵심 특허를 2천개 이상 보유하고 있는 글로벌 광학 업체로, 네덜란드 ASML의 EUV 장비에 탑재되는 광학 시스템을 독점 공급하고 있다. EUV 장비 1대에 들어가는 자이스 부품만 3만개 이상에 달하고 있다. 

자이스는 이와 함께 반도체 생산 공정의 첫 단추인 포토마스크(전기회로가 들어가는 필름) 공정 핵심 장비를 전세계 반도체 제조사들에 공급하고 있다. 생산한 반도체 가운데 멀쩡한 반도체가 얼마인지를 따지는 수율과 직결된 기술력을 갖추고 있다는 평가를 받는 곳이다. 

이재용 회장은 자이스 본사 방문에서 자이스 경영진과 반도체 핵심 기술 트렌드 및 양사의 중장기 기술 로드맵에 대해 논의했다. 자이스의 공장을 방문해 최신 반도체 부품 및 장비가 생산되는 모습도 직접 살펴봤다. 

자이스 본사 방문에는 송재혁 삼성전자 DS부문 CTO, 남석우 삼성전자 DS부문 제조&기술담당 사장 등 반도체 생산기술을 총괄하는 삼성전자의 경영진이 동행했다. 

삼성전자는 "삼성전자와 자이스는 파운드리와 메모리 사업 경쟁력을 강화하기 위해 향후 EUV 기술 및 첨단 반도체 장비 관련 분야에서의 협력을 더욱 확대키로 했다"고 밝혔다. 

삼성전자는 EUV 기술력을 바탕으로 파운드리 시장에서 3나노 이하 초미세공정 시장을 주도하고, 연내에 EUV 공정을 적용해 6세대 10나노급 D램을 양산할 계획이다. 이에 자이스의 기술을 감안할 때 대만 TSMC에 뒤진 파운드리 수율을 끌어 올리기 위한 협력 분위기 조성이 이번 방문의 목적으로 풀이된다. 

삼성전자는 "자이스와의 기술 협력을 통해 차세대 반도체의 ▲성능 개선 ▲생산 공정 최적화 ▲수율 향상을 달성해 사업 경쟁력을 끌어올릴 수 있을 것"이라고 기대했다. 

자이스는 2026년까지 480억원을 투자해 한국에 R&D 센터를 구축할 방침이다. 자이스가 한국 R&D 거점을 마련함에 따라 양사의 전략적 협력은 한층 강화될 전망이다. 

한편 이재용 회자은 지난해 5월 젠슨 황 엔비디아 CEO, 지난해 12월 피터 베닝크 ASML CEO, 지난 2월 마크 저커버그 메타 CEO 등 글로벌 IT 기업들의 CEO들을 잇따라 만나고 있다. 

AI 시대 반도체 생산 경쟁력은 물론, AI 서비스 분야에서 먹거리를 확보하기 위한 행보로 풀이되고 있다. 

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