인텔, 미국 오레곤 팹 대규모 확장 계획

인텔은 오레곤주 힐스보로 인근 캠퍼스에 대한 대대적인 확장 공사를 진행할 예정이다.

주 규제 당국에 제출된 확장 계획 서류에 따르면 인텔의 야심찬 계획에는 D1X 연구 시설의 확장과 이전 D1A 팹의 업그레이드가 포함됐다.

지난 7월 인텔이 오레곤 환경 품질국에 제출한 허가 신청서에 따르면 계획된 확장 작업은 회사의 고든 무어 파크(Gordon Moore Parkes) 캠퍼스에서 진행될 예정이다.

신청서는 기존 시설을 업그레이드하고 일부 추가 용량을 구축하려는 인텔의 의도를 강조하지만, 이러한 프로젝트에 대한 구체적인 재정 개요는 포함되지 않았다.

규모가 이전 오레곤 확장과 비슷하다면 총 투자액은 수십억 달러에 달할 수 있다.

마지막 업그레이드인 D1X의 세 번째 단계는 30억 달러의 비용이 들었고, 캠퍼스에 백만 평방피트 이상을 추가했다.

인텔은 새로운 장비의 설치가 이르면 2025년에 시작될 수 있고, 2028년에 추가 작업이 완료될 것으로 예상했다.

지금까지 인텔은 오레곤 캠퍼스에 대한 어떤 계획도 공식적으로 발표하지 않았지만, 지난 5월 인텔 최고경영자 팻 겔싱어는 캠퍼스가 크게 성장하기를 원한다며 확장을 암시한 바 있다.

고든 무어 파크 사이트에는 현재 5개의 팹이 있다.

1980년대에 지어진 인텔의 개발 팹인 D1A, 10nm 가능 D1B, D1C 팹, 7nm 가능 D1D 팹 등이다.